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AMD und IBM erläutern frühe Ergebnisse zur Verwendung von Immersion und Ultra-low-k in 45-nm-Chips
Fortschrittliche Technologien sorgen für höhere Leistung und Effizienz bei gleichzeitig verringerter Komplexität in Entwicklung und Fertigung von Mikroprozessoren
SAN FRANCISCO--(BUSINESS WIRE)--Beim International Electron Device Meeting (IEDM) präsentierten IBM (NYSE: IBM) und AMD (NYSE: AMD) heute Papiere, die die Verwendung von Immersionslithografie, von Ultra-low-k-Zwischendielektrika (Interconnect Dielectircs) und von Techniken der mehrfachen erhöhten Dehnung bei Transistoren (multiple enhanced Transistor Strain) zur Anwendung in der 45-nm-Mikroprozessor-Prozessgeneration beschreiben. AMD und IBM erwarten, dass die ersten 45-nm-Produkte, die Immersionslithografie und Ultra-low-k-Zwischendielektrika benutzen, Mitte 2008 verfügbar sind.
„Als erste Mikroprozessorhersteller, die die Nutzung von Immersionslithografie und Ultra-low-k-Zwischendielektrika für die Generation der 45-nm-Technologie ankündigen, sind AMD und IBM weiterhin Wegbereiter der Innovation in der Mikroprozessor-Prozesstechnologie“, erklärte Nick Kepler, Vizepräsident des Bereichs „Logic Technology Development“ bei AMD. „Durch die Immersionslithografie können wir erhöhte Mikroprozessor-Konstruktionsdefinition und Fertigungskonsistenz bieten. Damit erweitern wir unsere Fähigkeiten, unseren Kunden in der Industrie führende, hoch entwickelte Produkte zu liefern. Mit den Ultra-low-k-Zwischendielektrika werden wir das Leistung-pro-Watt-Verhältnis, mit dem unsere Mikroprozessoren in der Industrie führend sind, zum Nutzen all unserer Kunden weiter verbessern. Diese Ankündigung ist ein erneuter Beweis für die erfolgreiche Zusammenarbeit von IBM und AMD in Forschung und Entwicklung.“
In der gegenwärtigen Prozesstechnologie wird herkömmliche Lithografie eingesetzt, die beim Definieren von Mikroprozessordesigns jenseits der 65-nm-Prozesstechnologie-Generation erhebliche Einschränkungen zeigt. Die Immersionslithografie verwendet eine transparente Flüssigkeit, um den Raum zwischen den Projektionslinsen des Step-and-Repeat-Lithografiesystems und dem Wafer zu füllen, der Hunderte von Mikroprozessoren enthält. Dieser deutliche Fortschritt in der Lithografie sorgt für größere Tiefenschärfe und verbesserte Bildtreue, welche die Leistung auf Chipebene und die Fertigungseffizienz steigern kann. Dieses Immersionsverfahren verschafft AMD und IBM Fertigungsvorteile gegenüber den Wettbewerbern, die keinen serienfähigen Immersionslithografie-Prozess für die Einführung von 45-nm-Mikroprozessoren entwickeln können. Bedingt durch die erweiterten Prozessfähigkeiten zeigt beispielsweise die Leistung einer SRAM-Zelle Verbesserungen von ungefähr 15 Prozent, ohne dass dazu auf aufwendigere Doppelbelichtungsverfahren zurückgegriffen werden muss.
Darüber hinaus ist die Verwendung von Ultra-low-k-Dielektrika zur Reduzierung von Zwischenkapazität und Leitungsverzögerung ein kritischer Schritt bei der weiteren Steigerung der Mikroprozessorleistung sowie bei der Senkung der Verlustleistung. Ermöglicht wird dieser Vorteil durch die Entwicklung einer in der Industrie führenden Ultra-low-k- Prozessintegration, die die Dielektrizitätskonstante des Zwischendielektrikums unter Beibehaltung der mechanischen Festigkeit verringert. Die Ergänzung durch Ultra-low-k-Zwischenmaterial sorgt verglichen mit herkömmlichen Low-k-Dielektrika für eine 15-prozentige Verringerung der leitungsbedingten Verzögerung.
„Die Einführung der Immersionslithografie und der Ultra-low-k-Zwischendielektrika bei 45 nm ist ein frühes Beispiel für den erfolgreichen Technologietransfer von unserer bahnbrechenden Forschungstätigkeit am Albany Nanotech Center zum modernen 300-mm-Fertigungs- und Entwicklungsbereich von IBM in East Fishkill (New York, USA) sowie zur modernen 300-mm-Fertigungsstraße von AMD in Dresden“, erläutert Gary Patton, Vizepräsident für Technology Development am Semiconductor Research and Development Center von IBM. „Die erfolgreiche Integration führender Technologien mit AMD und unseren Partnern zeigt die Stärke unseres Modells der Innovation in Zusammenarbeit.“
Die ständige Verbesserung der Transistor-Strain-Techniken von AMD und IBM hat die kontinuierliche Skalierung der Transistorleistung ermöglicht, wobei die industrieweit vorhandenen, geometriebedingten Skalierungsprobleme im Zusammenhang mit dem Übergang auf 45-nm-Prozesstechnologien überwunden wurden. Trotz der höheren Packungsdichte von Transistoren der 45-nm-Generation haben IBM und AMD einen 80-prozentigen Zuwachs des p-Kanal-Transistortreiberstromes und einen 24-prozentigen Zuwachs des n-Kanal-Transistortreiberstromes verglichen mit ungedehnten Transistoren demonstriert. Dieses Ergebnis führt zur höchsten CMOS-Leistung, von der bis jetzt in der 45-nm-Technologie berichtet wurde.
IBM und AMD arbeiten seit Januar 2003 gemeinsam an der Entwicklung von Halbleiterfertigungs-Technologien der nächsten Generation. Im November 2005 gaben die beiden Unternehmen eine Verlängerung ihrer gemeinsamen Entwicklungsanstrengungen bis 2011 bekannt, wodurch die 32-nm- und 22-nm-Prozesstechnologie-Generationen abgedeckt werden sollen.
Über AMD
Advanced Micro Devices (NYSE: AMD) ist ein führender, weltweit aktiver Hersteller von innovativen Mikroprozessorlösungen für den EDV-, Kommunikations- und Unterhaltungselektronikmarkt. Das im Jahr 1969 gegründete Unternehmen AMD hat sich auf die Bereitstellung von hoch entwickelten Rechnerlösungen auf der Grundlage der Verbraucheranforderungen spezialisiert. Ausführlichere Informationen finden Sie unter www.amd.com.
Über IBM
Die IBM-Halbleitertechnologien leisten einen wichtigen Beitrag zur Stellung des Unternehmens als der Welt größtes Informationstechnologie-Unternehmen. Chiperzeugnisse und Lösungen des Unternehmens kommen in den eServer- und TotalStorage-Systemen von IBM ebenso zum Einsatz wie in vielen der bekanntesten Elektronikmarken der Welt. Zu den IBM-Innovationen im Halbleitersektor zählen Dual-Core-Mikroprozessoren, Kupferleitungstechnologie, Silicium-auf-Isolator- und Silicium-Germanium-Transistoren, gedehntes Silicium und eFUSE, eine Technologie, mit der Computerchips automatisch auf sich ändernde Bedingungen reagieren können. Weitere Informationen finden Sie unter http://www.ibm.com/chips.
AMD, das AMD-Pfeillogo und Kombinationen hiervon sind Warenzeichen von Advanced Micro Devices Inc. Andere Namen sind lediglich zu Informationszwecken aufgeführt und können Warenzeichen ihrer jeweiligen Eigentümer sein.
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